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g-C3N4光催化劑的改性及其光催化性能研究

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g-C3N4光催化劑的改性及其光催化性能研究
論文目錄
 
摘要第1-5頁
Abstract第5頁
第1章 緒論第9-23頁
    1.1 半導體光催化技術的概述第9頁
    1.2 半導體光催化技術的研究背景第9頁
    1.3 半導體光催化技術的研究進展第9-10頁
    1.4 半導體光催化技術的基本原理第10-11頁
    1.5 半導體光催化反應過程的本征影響因素第11-12頁
        1.5.1 半導體的禁帶寬度及帶邊位置第11頁
        1.5.2 半導體中電子-空穴的分離效率第11-12頁
        1.5.3 半導體的結晶性第12頁
    1.6 提高半導體催化活性的有效途徑第12-13頁
        1.6.1 調控半導體的能帶間隙第12頁
        1.6.2 提高半導體的吸光范圍第12-13頁
        1.6.3 提高半導體的電子-空穴分離效率第13頁
        1.6.4 增加半導體的比表面積第13頁
    1.7 半導體光催化技術的應用第13-14頁
        1.7.1 環境處理第13頁
        1.7.2 殺菌消毒第13-14頁
        1.7.3 光解水制氫第14頁
        1.7.4 二氧化碳還原第14頁
    1.8 半導體光催化技術的應用前景第14-15頁
    1.9 新型g-C_3N_4 半導體光催化劑的研究及應用前景第15-22頁
        1.9.1 g-C_3N_4 的概述第15頁
        1.9.2 g-C_3N_4 的結構和性質第15頁
        1.9.3 g-C_3N_4 的制備第15-16頁
        1.9.4 提高g-C_3N_4 催化活性的有效途徑第16-19頁
        1.9.5 g-C_3N_4 的應用第19-20頁
        1.9.6 g-C_3N_4 的應用前景第20-22頁
    1.10 本文研究意義及內容第22-23頁
        1.10.1 研究意義第22頁
        1.10.2 研究內容第22-23頁
第2章 g-C_3N_4-W_(18)O_(49) 光催化劑的制備及其光催化機理研究第23-33頁
    2.1 引言第23頁
    2.2 實驗部分第23-26頁
        2.2.1 實驗藥品第23-24頁
        2.2.2 主要實驗儀器和設備第24-25頁
        2.2.3 樣品的合成與制備第25頁
        2.2.4 樣品的表征第25頁
        2.2.5 光催化性能測試第25-26頁
    2.3 結果與討論第26-31頁
        2.3.1 XRD分析第26頁
        2.3.2 形貌分析第26-27頁
        2.3.3 Uv-vis分析第27-28頁
        2.3.4 PL分析第28-29頁
        2.3.5 g-C_3N_4-W_(18)O_(49) 復合光催化劑的光催化性能第29-30頁
        2.3.6 光催化實驗機理分析第30頁
        2.3.7 光催化劑的產氫性能第30-31頁
    2.4 本章小結第31-33頁
第3章 g-C_3N_4 的表面改性及其可見光分解水制氫性能研究第33-48頁
    3.1 g-C_3N_4 表面修飾C量子點及其可見光分解水制氫性能研究第33-41頁
        3.1.1 引言第33頁
        3.1.2 實驗部分第33-35頁
        3.1.3 結果與討論第35-41頁
        3.1.4 本節小結第41頁
    3.2 g-C_3N_4 表面引入羥基及其可見光分解水制氫性能研究第41-48頁
        3.2.1 引言第41-42頁
        3.2.2 實驗部分第42-43頁
        3.2.3 結果與討論第43-47頁
        3.2.4 本節小結第47-48頁
第4章 非貴金屬NiS_2 助催化劑負載g-C_3N_4 的制備及其可見光分解水制氫性能研究第48-61頁
    4.1 引言第48-49頁
    4.2 實驗部分第49-50頁
        4.2.1 實驗藥品第49頁
        4.2.2 主要實驗儀器和設備第49頁
        4.2.3 樣品的合成與制備第49-50頁
        4.2.4 樣品的表征第50頁
        4.2.5 光催化分解水產氫性能測試第50頁
    4.3 結果與討論第50-60頁
        4.3.1 XRD分析第50-51頁
        4.3.2 SEM和 TEM表征第51-52頁
        4.3.3 EDX能譜分析第52頁
        4.3.4 FT-IR分析第52-53頁
        4.3.5 XPS分析第53-54頁
        4.3.6 UV-vis分析第51-55頁
        4.3.7 光催化性能研究第55-56頁
        4.3.8 催化劑的穩定性測試第56-57頁
        4.3.9 光催化機理分析第57-58頁
        4.3.10 硫化鎳種類對g-C_3N_4 性能的影響第58-60頁
    4.4 本章小結第60-61頁
第5章 結論第61-63頁
參考文獻第63-74頁
致謝第74-75頁
個人簡歷、申請學位期間的研究成果及發表的學術論文第75頁

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