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利用磁場輔助紫外光氧化開展石墨烯薄膜圖案化研究

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利用磁場輔助紫外光氧化開展石墨烯薄膜圖案化研究
論文目錄
 
摘要第1-4頁
abstract第4-8頁
第一章 緒論第8-29頁
  1.1 引言第8頁
  1.2 石墨烯的性質第8-12頁
    1.2.1 力學與熱學性質第9-10頁
    1.2.2 光學性質第10-11頁
    1.2.3 電學性質第11-12頁
  1.3 石墨烯薄膜的制備方法第12-16頁
    1.3.1 機械剝離法第13頁
    1.3.2 化學氣相沉積(CVD)法第13-16頁
    1.3.3 碳化硅(SiC)外延生長法第16頁
  1.4 石墨烯圖案化的研究現狀第16-22頁
    1.4.1 利用光刻膠進行光學或電子束曝光(EBL)刻蝕第16-17頁
    1.4.2 聚焦離子束(FIB)第17-19頁
    1.4.3 激光直寫技術第19頁
    1.4.4 TiO_2 光催化第19-20頁
    1.4.5 利用硬質掩模版進行反應離子束刻蝕(RIE)第20-21頁
    1.4.6 紫外光氧化刻蝕第21-22頁
  1.5 石墨烯薄膜及其微納圖形的應用第22-26頁
  1.6 石墨烯遷移率的計算第26-27頁
  1.7 課題的提出及主要研究內容第27-29頁
第二章 利用氙燈準分子紫外光氧化刻蝕石墨烯薄膜的研究第29-38頁
  2.1 引言第29頁
  2.2 紫外光氧化石墨烯原理第29-30頁
  2.3 實驗部分第30-32頁
    2.3.1 樣品制備第30-31頁
    2.3.2 實驗裝置第31-32頁
  2.4 結果和討論第32-36頁
    2.4.1 工作距離第32頁
    2.4.2 刻蝕時間第32-33頁
    2.4.3 反應氧含量第33-35頁
    2.4.4 X射線光電子能譜(XPS)分析第35-36頁
  2.5 小結第36-38頁
第三章 利用磁場輔助紫外光氧化開展石墨烯薄膜圖案化研究第38-49頁
  3.1 引言第38頁
  3.2 實驗理論第38-40頁
    3.2.1 紫外光氧化反應中腔室內不同氣體的磁化率及受力第38-40頁
  3.3 實驗準備第40-42頁
    3.3.1 樣品制備第40頁
    3.3.2 磁場和掩模版第40-42頁
    3.3.3 實驗裝置第42頁
  3.4 實驗部分第42-48頁
    3.4.1 無磁場輔助的紫外光氧化第42-44頁
    3.4.2 豎直磁場輔助提高石墨烯圖案質量第44-45頁
    3.4.3 使用鐵磁性掩模版開展石墨烯圖案化第45-48頁
  3.5 本章小結第48-49頁
第四章 利用磁場輔助紫外光氧化制備石墨烯場效應晶體管(FET)器件陣列第49-56頁
  4.1 引言第49頁
  4.2 實驗準備第49-51頁
    4.2.1 石墨烯FET陣列制備方法第49-50頁
    4.2.2 電學測試平臺第50-51頁
  4.3 器件表征與測試第51-55頁
    4.3.1 豎直磁場輔助紫外光氧化制備石墨烯FET陣列第51-53頁
    4.3.2 無磁場輔助紫外光氧化制備石墨烯FET陣列第53-55頁
  4.4 本章小結第55-56頁
第五章 總結與展望第56-59頁
  5.1 主要工作總結第56-57頁
  5.2 未來研究工作展望第57-59頁
參考文獻第59-69頁
附錄1 電學測試平臺第69-73頁
致謝第73-74頁
攻讀碩士學位期間已發表或錄用的論文和成果第74-76頁

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